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科微研磨(张家港)有限公司-半导体研磨设备・化学机械抛光(CMP)・单片式清洗设备制造商
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关键词(KeyWords)一般不超过100个字符
半导体・Semiconductor・研磨设备・化学机械抛光CMP设备・单片式清洗设备・晶圆清洗设备・单片式・Single・Wafer・晶圆衬底加工・碳化硅・氮化镓・抛光液・研磨液・定盘・SiC・GaN・硅片・硅晶圆・半导体湿法・晶圆切割・日本・中国・半导体材料・蚀刻・光刻机・清洗・光罩・光刻系统・电子束・晶圆・硅片・日本半导体材料・日本半导体设备・半导体设备・晶圆自动剥离・晶圆槽式清洗设备・晶圆预清洗设备・晶圆自动剥离清洗・晶圆最终清洗设备・晶圆清洗系统・晶圆中清洗设备・晶圆前道清洗・晶圆前端工艺设备模块・硅片前端模块・硅晶片・硅晶圆槽式清洗设备・半导体用清洗设备・晶圆清洗设备・功率半导体用・功率半导体清洗・碳化硅・氮化镓・液晶・MEMS・LCD・光伏・化合物半导体・显示器・LED・玻璃基板清洗系统・SiC・GaN・中国首家晶圆自动剥离设备制造商・抛光液・抛光垫・金属研磨剂・抛光片・外延片・控片・挡片・Dummy・Test・Monitor・Wafer・测试・切割・研磨・抛光・沉积・后道封测・CMP抛光材料・浆料・硅晶圆化学机械抛光浆料・砷化镓抛光液・可对应客制化设备・OLED・Micro LED・RF・代工服务・晶圆衬底加工
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描述(Description)一般不超过200个字符
半导体・Semiconductor・研磨设备・化学机械抛光CMP设备・单片式清洗设备・晶圆清洗设备・单片式・Single・Wafer・晶圆衬底加工・碳化硅・氮化镓・抛光液・研磨液・定盘・SiC・GaN・硅片・硅晶圆・半导体湿法・晶圆切割・日本・中国・半导体材料・蚀刻・光刻机・清洗・光罩・光刻系统・电子束・晶圆・硅片・日本半导体材料・日本半导体设备・半导体设备・晶圆自动剥离・晶圆槽式清洗设备・晶圆预清洗设备・晶圆自动剥离清洗・晶圆最终清洗设备・晶圆清洗系统・晶圆中清洗设备・晶圆前道清洗・晶圆前端工艺设备模块・硅片前端模块・硅晶片・硅晶圆槽式清洗设备・半导体用清洗设备・晶圆清洗设备・功率半导体用・功率半导体清洗・碳化硅・氮化镓・液晶・MEMS・LCD・光伏・化合物半导体・显示器・LED・玻璃基板清洗系统・SiC・GaN・中国首家晶圆自动剥离设备制造商・抛光液・抛光垫・金属研磨剂・抛光片・外延片・控片・挡片・Dummy・Test・Monitor・Wafer・测试・切割・研磨・抛光・沉积・后道封测・CMP抛光材料・浆料・硅晶圆化学机械抛光浆料・砷化镓抛光液・可对应客制化设备・OLED・Micro LED・RF・代工服务・晶圆衬底加工
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