物理气相沉积(physical vapor deposition简称pvd) 是用物理的方法(如蒸发、溅射等)使镀膜材料气化，在基体表面沉积成膜的方法。除传统的真空蒸发和溅射沉积技术外，还包括近30 多年来蓬勃...
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